Corial 200IL

  • Описание

Эта система индуктивно связанной плазмы с вакуумным шлюзом предназначена для плазмохимического травления GaN, GaAs, GaP, GaAlAs, InP, InGaAsP, ZnS, CdTe, AlN, InAs, Al и Si. Система может быть укомплектована CCD-камерой с лазерным датчиком, который в реальном времени измеряет толщину стравливаемого слоя. Программное обеспечение позволяет создать многошаговый процесс и полностью автоматизировать его.

Основные возможности:

  • Уникальный дизайн специальных подложкодержателей позволяет адаптировать реактор под широкий спектр применений. Это позволяет оптимизировать систему для различных процессов и для различных типоразмеров подложек
  • Контроль параметров плазменного разряда
  • Датчик процесса плазмохимического травления полностью интегрирован в систему и в программное обеспечение. Это дает возможность определять скорость травления и толщину стравленного слоя в режиме реального времени с последующей автоматической остановкой процесса
  • Удалённый доступ и удалённое управление системой по сети internet
  • Все системы Corial созданы по модульному принципу. Оборудование может быть усовершенствовано от простой RIE системы до системы ICP с вакуумным шлюзом и расширенной газовой панелью
  • Возможна установка шлюза для сокращения времени откачки
Copyright MAXXmarketing GmbH
JoomShopping Download & Support
Нужна помощь специалиста?
Оставьте ваш номер и мы вам перезвоним:
Отправить
© 2018 НижПромИнжиниринг
Создание интернет-магазинов — Сайт52
Фильтр
Закрыть
Купить в 1 клик